12月26日消息，荷兰光刻机巨头ASML（阿斯麦）CEO克里斯托弗·富凯（Christophe Fouquet）表示，尽管华为、中芯国际在半导体领域取得的进步相当可观，但两家公司相比Intel、台积电、三星等行业巨头落后10-15年。 在ASML看来，在无法获得先进EUV光刻机的情况下，即便采用一流的DUV设备，依然无法和台积电等厂商的工艺技术相媲美。 作为参考，ASML及其合作伙伴从基础工作到完成商用机器再到构建EUV生态系统，花了20多年的时间。 据悉，美国方面在向ASML施压，要求其停止在中国维护和维修DUV…
